Depozicija i karakterizacija nanokristalnog silicija

disertacija

• Naslov (engleski): Deposition and characterization of nanocrystalline silicon
• Autor: Davor Ristić
• Mentor: Mile Ivanda (mentor)
• Član povjerenstva: Miroslav Požek (predsjednik povjerenstva)
• Član povjerenstva: Mile Ivanda (član povjerenstva)
• Član povjerenstva: Nikola Radić (član povjerenstva)
• Član povjerenstva: Ivo Batistić (član povjerenstva)
• Član povjerenstva: Ivan Kupčić (član povjerenstva)
• Ustanova koja je dodijelila akademski / stručni stupanj: Sveučilište u Zagrebu; Prirodoslovno-matematički fakultet; (Fizički odsjek); Zagreb
• Datum i država obrane: 2010-04-12, Hrvatska
• Znanstveno / umjetničko područje, polje i grana: PRIRODNE ZNANOSTI; Fizika
• Univerzalna decimalna klasifikacija (UDC): 53 - Fizika

Sažetak

Deponirani su tanki filmovi silicija, silicijevog dioksida i silicijem bogatog oksida (SiOx) metodom LPVCD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition). Depozicije su se odvijale pod različitim uvjetima u okviru kojih se varirao sastav i parcijalni tlak radnih plinova i temperatura depozicije. Termičkim oporavkom SiOx slojeva na temperaturama od 800 do 1200 oC dobile su se različite nanočestice silicija. Navedene nanočestice karakterizirane su pomoću Ramanove, infracrvene i apsorpcijske spektroskopije i pretražne elektronske mikroskopije. Razvijen je i teorijski model za Ramanovo raspršenje na optičkim i akustičkim vibracijama nanočestičnog silicija.

Sažetak (engleski)

Thin silicon, silicon-dioxide and silicon-rich oxide (SiOx) films were produced using the LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) method. The depositions were made under different conditions, where the composition and the partial pressures of the reactant gasses and the deposition temperature were varied. By thermal annealing of SiOx films under temperatures from 800 to 1200 oC nanoparticles of different sizes were formed. The nanoparticles were characterised using Raman, infrared and absorption spectroscopy and scanning electron microscopy. The theoretical model of Raman scattering on optical and acoustical vibrational modes of silicon nanoparticles was developed.

• Ključne riječi: amorfni silicij; nanočestice; Ramanova spektroskopija; silicij; silicijem bogati oksid
• Ključne riječi (engleski): amorphous silicon; nanoparticles; Raman spectroscopy; silicon; silicon-rich oxide
• Jezik: hrvatski
• URN:NBN: urn:nbn:hr:217:605690
• Studijski program: Naziv: Fizika; Vrsta studija: sveučilišni; Stupanj studija: poslijediplomski doktorski; Akademski / stručni naziv: doktor/doktorica znanosti, područje prirodnih znanosti, polje fizika (dr. sc.)
• Vrsta resursa: Tekst
• Opseg: 105 str.
• Način izrade datoteke: Izvorno digitalna
• Prava pristupa: Otvoreni pristup
• Datum i vrijeme pohrane: 2017-08-24 08:40:44